পণ্যের সংজ্ঞা
স্পাটারিং টার্গেট হল স্পটারিং দ্বারা পাতলা ফিল্ম প্রস্তুত করার জন্য প্রধান উপকরণগুলির মধ্যে একটি। স্পাটারিং প্রক্রিয়া ইলেকট্রনিক পাতলা ছায়াছবি প্রস্তুত করার জন্য প্রধান প্রযুক্তিগুলির মধ্যে একটি। এটি আয়ন উৎস দ্বারা উত্পন্ন আয়ন ব্যবহার করে উচ্চ -গতির আয়ন রশ্মি তৈরি করে যা উচ্চ শূন্যে ত্বরিত একত্রিত হওয়ার পরে, কঠিন পৃষ্ঠে বোমাবর্ষণ করে। কঠিন পৃষ্ঠের আয়ন এবং পরমাণুগুলি গতিশক্তি বিনিময় করে, যার ফলে কঠিন পৃষ্ঠের পরমাণুগুলি কঠিন ত্যাগ করে এবং স্তর পৃষ্ঠে জমা হয়। বোমবার্ডেড সলিড হল স্পটারিং দ্বারা পাতলা ফিল্ম জমা করার কাঁচামাল, যাকে স্পাটারিং টার্গেট বলা হয়।
কাঠামোগতভাবে, লক্ষ্য প্রধানত "লক্ষ্য খালি" এবং "ব্যাক প্লেট" দ্বারা গঠিত। তাদের মধ্যে, লক্ষ্যবস্তু হল উচ্চ-গতি আয়ন রশ্মি দ্বারা বোমাবাজি করা লক্ষ্যবস্তু, যা উচ্চ-বিশুদ্ধতা ধাতু এবং শস্যের অভিযোজন নিয়ন্ত্রণের সাথে স্পটারিং লক্ষ্যের মূল অংশের অন্তর্গত। পিছনের প্লেট ঢালাই প্রক্রিয়া জড়িত, sputtering লক্ষ্য ঠিক করার প্রধান ভূমিকা পালন করে। উচ্চ-বিশুদ্ধতা ধাতুর কম শক্তির কারণে, স্পুটারিং টার্গেটকে একটি ডেডিকেটেড মেশিনে স্পুটারিং প্রক্রিয়া সম্পূর্ণ করতে হবে। মেশিনের অভ্যন্তরে একটি উচ্চ-ভোল্টেজ, উচ্চ- ভ্যাকুয়াম পরিবেশ, তাই পিছনের প্লেটেরও ভাল বৈদ্যুতিক এবং তাপ পরিবাহিতা থাকা দরকার।
পণ্য শ্রেণীবিভাগ
আকৃতি: এটি দীর্ঘ লক্ষ্যবস্তু, বর্গাকার লক্ষ্য, বৃত্তাকার লক্ষ্য এবং টিউব লক্ষ্যে বিভক্ত করা যেতে পারে। তাদের মধ্যে, সবচেয়ে সাধারণ লক্ষ্যগুলি হল বর্গাকার লক্ষ্য এবং বৃত্তাকার লক্ষ্যগুলি, যা কঠিন লক্ষ্য। বর্তমানে, লক্ষ্য উপকরণের ব্যবহারের হার উন্নত করার জন্য, ফাঁপা নলাকার স্পুটারিং লক্ষ্যবস্তু যা স্থির বার চুম্বক উপাদানগুলির চারপাশে ঘুরতে পারে তা দেশে এবং বিদেশে প্রচার করা হচ্ছে। যেহেতু এই ধরনের টার্গেটের টার্গেট সারফেস সমানভাবে 360 ডিগ্রীতে খোদাই করা যায়, তাই ব্যবহারের হার স্বাভাবিক 20% থেকে 30% থেকে 75% থেকে 80% পর্যন্ত বাড়ানো যেতে পারে।
উপাদান: লক্ষ্যগুলি ধাতব লক্ষ্যে শ্রেণীবদ্ধ করা হয় (বিশুদ্ধ ট্যানটালাম, নাইওবিয়াম, ভ্যানাডিয়াম, হাফনিয়াম, টাইটানিয়াম, টাংস্টেন, মলিবডেনাম, ইত্যাদি), খাদ লক্ষ্যবস্তু (ট্যান্টালাম-নিওবিয়াম খাদ, নাইওবিয়াম-টাংস্টেন খাদ, নাইওবিয়াম, সিকোনিয়াম{3}{3}} niobium alloy, niobium 521 alloy, niobium-টাইটানিয়াম অ্যালয়, নিকেল-টাইটানিয়াম অ্যালয়, নিকেল-কোবাল্ট অ্যালয়, ইত্যাদি), এবং সিরামিক যৌগ লক্ষ্য (অক্সাইড, সিলিসাইড, কার্বাইড, সালফাইড, ইত্যাদি)৷
শিল্প শ্রেণীবিভাগ
1) প্রদর্শন প্যানেল লক্ষ্য শিল্প
বিভিন্ন প্রক্রিয়ার উপর নির্ভর করে, FPD শিল্প লক্ষ্যগুলিকেও মোটামুটিভাবে বিভক্ত করা যেতে পারে স্পুটারিং লক্ষ্য এবং বাষ্পীভবন লক্ষ্যে। তাদের মধ্যে, স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি প্রধানত Cu, Al, Mo এবং IGZO। বাষ্পীভবনের জন্য ব্যবহৃত লক্ষ্যবস্তু সাধারণত দুটি ধাতু দ্বারা গঠিত: Ag এবং Mg।
অ্যাপ্লিকেশন শ্রেণীবিভাগ: মূলধারার ডিসপ্লে প্যানেল LCD এবং OLED এ বিভক্ত। পাতলা-ফিল্ম ট্রানজিস্টর লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে (TFT-LCDs) পাতলা, কম বিদ্যুত খরচ এবং কম খরচের মতো সুবিধা দেয়। বর্তমানে, ডিসপ্লে প্যানেলের মার্কেট শেয়ারের 80% এর বেশি TFT-LCD-এর জন্য রয়েছে। এই ডিসপ্লে প্যানেলগুলি লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে সেলগুলির একটি বৃহৎ অ্যারের দ্বারা গঠিত (উদাহরণস্বরূপ, একটি 4K রেজোলিউশন স্ক্রীনে 8 মিলিয়নেরও বেশি কোষ থাকে), যার প্রতিটি একটি পৃথক পাতলা ফিল্ম ট্রানজিস্টর (TFT) দ্বারা নিয়ন্ত্রিত এবং চালিত হয়।
দ্রুত বিকাশমান OLED প্যানেল শিল্প লক্ষ্যবস্তুগুলির চাহিদাতেও উল্লেখযোগ্য বৃদ্ধি পেয়েছে। সাধারণ OLED কাঠামোর মধ্যে রয়েছে ইন্ডিয়াম টিন অক্সাইড (ITO) গ্লাসে দশ ন্যানোমিটার পুরু আলোর একটি স্তর- নিঃসরণকারী উপাদান। আইটিও স্বচ্ছ ইলেক্ট্রোড ডিভাইসের অ্যানোড হিসাবে কাজ করে, যখন মলিবডেনাম বা একটি সংকর ধাতু ক্যাথোড হিসাবে কাজ করে।
2) ফটোভোলটাইক লক্ষ্য শিল্প
লক্ষ্যবস্তুগুলি প্রাথমিকভাবে হেটারোজংশন এবং ক্যাডমিয়াম টেলুরাইড ব্যাটারিতে ব্যবহৃত হয়। আইটিও লক্ষ্যগুলি হল হেটেরোজংশন সৌর কোষ উত্পাদনে স্বচ্ছ পরিবাহী স্তর জমা করার মূল উপকরণ। ক্যাডমিয়াম টেলুরাইড, ক্যাডমিয়াম জিঙ্ক টেলউরাইড, এবং ক্যাডমিয়াম সেলেনাইড হল পাতলা ফিল্ম সোলার সেল তৈরির মূল উপযোগী।
অ্যাপ্লিকেশন: ফোটোভোলটাইক কোষগুলিতে ব্যবহৃত লক্ষ্যগুলি পিছনের ইলেক্ট্রোড গঠন করে। পাতলা ফিল্ম সোলার সেলের পিছনের ইলেক্ট্রোড-স্পটারিং লক্ষ্যগুলির দ্বারা গঠিত হয় তিনটি প্রাথমিক উদ্দেশ্য রয়েছে: প্রথমত, এটি প্রতিটি পৃথক কোষের জন্য নেতিবাচক ইলেক্ট্রোড হিসাবে কাজ করে; দ্বিতীয়ত, এটি একটি পরিবাহী পথ সরবরাহ করে যা কোষকে সিরিজে সংযুক্ত করে; এবং তৃতীয়ত, এটি সৌর কোষের আলোর প্রতিফলন বাড়ায়। বর্তমানে, পাতলা ফিল্ম সোলার সেলগুলির জন্য স্পুটারিং লক্ষ্যগুলি হল প্রাথমিকভাবে বর্গাকার প্লেট, যেখানে বিশুদ্ধতার প্রয়োজনীয়তা সাধারণত 99.99% (4N) ছাড়িয়ে যায়। পাতলা ফিল্ম কোষগুলির জন্য সাধারণত ব্যবহৃত স্পুটারিং লক্ষ্যগুলির মধ্যে রয়েছে অ্যালুমিনিয়াম, তামা, মলিবডেনাম এবং ক্রোমিয়াম, সেইসাথে ITO এবং AZO (অ্যালুমিনিয়াম জিঙ্ক অক্সাইড)। এইচআইটি কোষগুলি প্রাথমিকভাবে তাদের স্বচ্ছ পরিবাহী ফিল্মের জন্য আইটিও লক্ষ্যগুলি ব্যবহার করে। অ্যালুমিনিয়াম এবং তামার লক্ষ্যগুলি প্রাথমিকভাবে পরিবাহী স্তরের জন্য ব্যবহৃত হয়, বাধা স্তরের জন্য মলিবডেনাম এবং ক্রোমিয়াম লক্ষ্য এবং স্বচ্ছ পরিবাহী স্তরের জন্য ITO এবং AZO লক্ষ্যগুলি।
3) সেমিকন্ডাক্টর টার্গেট ইন্ডাস্ট্রি
সেমিকন্ডাক্টর চিপ ইন্ডাস্ট্রি হল মেটাল স্পুটারিং টার্গেটের অন্যতম প্রধান প্রয়োগ ক্ষেত্র। এটি লক্ষ্য উপকরণগুলির রচনা, গঠন এবং কর্মক্ষমতার জন্য সর্বোচ্চ প্রয়োজনীয়তা সহ ক্ষেত্রও। লক্ষ্য বিশুদ্ধতা প্রয়োজন সাধারণত 99.9995% (5N5) বা এমনকি 99.9999% (6N)। সেমিকন্ডাক্টর চিপগুলির জন্য ধাতব স্পটারিং লক্ষ্যগুলির ভূমিকা হল তথ্য প্রেরণের জন্য চিপে ধাতব তারগুলি তৈরি করা।
আমি বিশ্বাস করি যে আমাদের সাথে যোগাযোগ করা আপনাকে অপ্রত্যাশিত বিস্ময় নিয়ে আসবে
ই-মেল
kd@tantalumysjs.com
হোয়াটসঅ্যাপ
+86 13379388917
যোগ করুন
ওয়েনকুয়ান গ্রাম শিল্প অঞ্চল, গাওক্সিন উন্নয়ন অঞ্চল, বাওজি সিটি, শানসি প্রদেশ, চীন
