টাংস্টেন স্পুটারিং টার্গেট

টাংস্টেন স্পাটারিং লক্ষ্যগুলি তৈরি করতে ব্যবহৃত উচ্চ বিশুদ্ধতা টংস্টেন ধাতু সাধারণত ভঙ্গুর এবং কাজ করা চ্যালেঞ্জিং। টংস্টেন তার কঠোরতা বজায় রাখতে পারে (যা অনেক স্টিলের চেয়ে বেশি) এবং এটি একটি খুব বিশুদ্ধ উপাদানে গঠিত হলে এটি প্রক্রিয়া করা সহজ করার জন্য যথেষ্ট নমনীয়তা রয়েছে। এটি ফরজিং, স্ট্রেচিং বা এক্সট্রুশন প্রক্রিয়ার মধ্য দিয়ে যায়। সাধারণত, টাংস্টেন অবজেক্ট তৈরি করতেও সিন্টারিং ব্যবহার করা হয়।

টংস্টেনের সবচেয়ে শক্তিশালী প্রসার্য শক্তি, সর্বনিম্ন বাষ্পের চাপ (1650 ডিগ্রি , 3000 ডিগ্রি ফারেনহাইটের বেশি তাপমাত্রায়) এবং বিশুদ্ধ আকারে সমস্ত ধাতুর সর্বোচ্চ গলনাঙ্ক (3422 ডিগ্রি , 6192 ডিগ্রি ফারেনহাইট)। সমস্ত বিশুদ্ধ ধাতুর মধ্যে, টংস্টেনের সর্বনিম্ন তাপীয় প্রসারণ সহগ রয়েছে। টাংস্টেন পরমাণুর মধ্যে 5d ইলেক্ট্রন দ্বারা তৈরি শক্তিশালী সমযোজী সংযোগগুলি টংস্টেনকে তার নিম্ন তাপীয় প্রসারণ, উচ্চ গলনাঙ্ক এবং দুর্দান্ত প্রসার্য শক্তি দেয়। ইস্পাত উল্লেখযোগ্যভাবে আরও টেকসই হয়ে ওঠে যখন টংস্টেন এর সাথে পরিমিত পরিমাণে মিশ্রিত করা হয়।

বিভিন্ন আকারে এবং বিশুদ্ধতায় টাংস্টেন স্পটারিং টার্গেটের উত্পাদন ইউশেং মেটালের একটি বিশেষত্ব, যা বেশিরভাগ আধা-পরিবাহী এবং মাইক্রো-ইলেক্ট্রনিক্সে ব্যবহৃত হয়। সমস্ত ধাতুর সর্বোচ্চ গলনাঙ্ক থাকার কারণে, TFT-LCD স্ক্রিনে ব্যবহৃত পাতলা-ফিল্ম ট্রানজিস্টরের একটি অংশ, টংস্টেন স্তরগুলি উচ্চ তাপমাত্রার পরিবেশে অবিশ্বাস্যভাবে স্থিতিশীল। আমাদের লক্ষ্যগুলির উচ্চ ঘনত্ব, নিম্ন গড় কণার আকার এবং উচ্চতর বিশুদ্ধতা আমাদের অনন্য গঠনের কৌশলগুলির ফলে, যা আপনাকে উচ্চতর স্পাটারিং গতির কারণে একটি দ্রুত প্রক্রিয়ার সুবিধা নিতে এবং খুব সমজাতীয় টংস্টেন স্তর তৈরি করতে দেয়।

আমাদের নমনীয় উৎপাদন কৌশল আমাদের প্রয়োজনীয় ফলাফল তৈরি করতে মাইক্রোস্ট্রাকচার পরিবর্তন করতে দেয়। ব্যবহারকারী ধ্রুবক ক্ষয় হার এবং সমজাতীয় স্তর থেকে লাভ করতে পারে যদি স্পুটারিং লক্ষ্যের দানাগুলি সমানভাবে সারিবদ্ধ থাকে। 100 মিটার হল সাধারণ শস্যের আকার।

একটি ধাতব স্পুটারিং লক্ষ্যে অবশ্যই চমৎকার রাসায়নিক বিশুদ্ধতা থাকতে হবে কারণ এর ফলে অধিকতর বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা এবং PVD প্রক্রিয়া চলাকালীন কণার গঠন কমে যাবে। একটি 3N5 টাংস্টেন টার্গেটের বিশ্লেষণের সাধারণ শংসাপত্র নীচে সরবরাহ করা হয়েছে।

বিশ্লেষণী কৌশল:

1. ধাতব উপাদান পরীক্ষা করার জন্য GDMS এবং ICP-OES ব্যবহার করা হয়েছিল।
2. LECO গ্যাসের উপাদান পরীক্ষা করেছে।

উপাদান প্রস্তুতি, সিন্টারিং, এবং রাসায়নিক বিশ্লেষণ হল টাংস্টেন স্পাটারিং টার্গেটের প্রস্তুতির ধাপ। রোলিং, অ্যানালাইজিং, মেটালোগ্রাফিক পরিদর্শন, উত্পাদন, ত্রি-মাত্রিক পরিদর্শন, পরিষ্কার, চূড়ান্ত পরিদর্শন, প্যাকেজিং এবং চালান।

টাংস্টেন স্পটারিং লক্ষ্য এবং এর প্রস্তুতির কৌশল
99.95 শতাংশের বেশি বিশুদ্ধতা, 2.2-2.6 মিমি, 5-10 মিনিটের জন্য ঠান্ডা আইসোস্ট্যাটিক চাপ, 2300-2400 ডিগ্রি, 8-12 ঘন্টা মধ্যবর্তী ফ্রিকোয়েন্সি ইন্ডাকশন সিন্টারিং, এবং 1450-1500 ডিগ্রি টাংস্টেন পাউডার মিশ্রণ। এটি 90-180 মিনিটের জন্য 1550 ডিগ্রীতে অ্যানিলিং করার পরে, 60 শতাংশেরও বেশি বিকৃতি সহ অসংখ্য পাস দ্বারা 5-15 মিমি পুরুত্বে গরম করা হয়। 1300 থেকে 1400 ডিগ্রিতে 90 থেকে 150 মিনিটের অ্যানিলিং পিরিয়ডের পরে, যান্ত্রিক প্রক্রিয়াকরণ করা হয়। চূড়ান্ত টাংস্টেন টার্গেট উপাদান শুধুমাত্র কর্মক্ষমতা ভাল কিন্তু প্রক্রিয়া করা যুক্তিসঙ্গতভাবে সহজ এবং ব্যয়বহুল সরঞ্জাম প্রয়োজন হয় না। পৃষ্ঠে যান্ত্রিক প্রক্রিয়াকরণের পরিমাণ প্রায় 1.5 মিমি।

অন্যান্য টংস্টেন লক্ষ্য খাদ পাওয়া যায়.
টাংস্টেন টাইটানিয়াম, টাংস্টেন টাইটানিয়াম খাদ, টাংস্টেন কপার, টাংস্টেন ম্যাঙ্গানিজ, টাংস্টেন নিকেল ইত্যাদি দিয়ে তৈরি টার্গেট।

গরম ট্যাগ: টাংস্টেন স্পুটারিং লক্ষ্য, সরবরাহকারী, নির্মাতারা, কারখানা, কাস্টমাইজড, ক্রয়, মূল্য, উদ্ধৃতি, গুণমান, বিক্রয়ের জন্য, স্টকে